特征參數：
● 150-350mW@355nm
● 80MHz重複頻率 / 12ps脈寬
● 高光束質量M²<1.3
● 緊湊（còu）、密封、堅固的工業級操作平（píng）台確保了（le）良好的光束性能和長期的功率穩定性。
應用：
● 半導體晶圓檢查
● 細胞篩選
● 微加工
● 微型立體光（guāng）刻
光束特性 | ||
項目 | GENIUS-150 | GENIUS-350 |
波長(nm) | 355nm | |
功率 | 150mW | 350mW |
重複（fù）頻率1(MHz) | 80MHz±1MHz | |
脈寬2(ps) | ＜12ps | |
光（guāng）束質量 | TEM00(M2＜1.3) | |
平均功率穩定（dìng）性3(RMS) | ＜2% | |
偏振度 | ＞100:1 水平 | |
光斑（bān）圓度(%) | ＞85% | |
光束指向（xiàng）性4(μrad/℃) | ＜20μrad/℃ | |
光斑尺寸5(mm) | ~1mm | |
一般特性 | ||
電源輸（shū）入 | 220 VAC ±5% 50-60Hz | |
能量損（sǔn）耗 | ＜1kW | |
冷卻方（fāng）式 | 閉路循（xún）環水冷 | |
工作條件 | 溫度 15-35℃ 濕度 ＜65% | |
加熱時間(min) | ＜40min | |
